微流控芯片

本公司自主研发的负性光刻胶刻蚀TSU8系列产品是一种环氧型、近紫外光负性光刻胶，

克服了普通光刻胶采用 UV光刻导致的深宽比不足的问题，十分适合于制备高深宽比微结构。

该产品可应用于微流控芯片、 MEMS、芯片封装和微加工等领域。

更多规格的负性光刻胶正在研发与验证过程中。